微观结构(SEM)成像检测
检测项目
表面形貌分析:
- 表面粗糙度:Ra值≤0.1μm(参照ISO4287)
- 颗粒分布:粒径均匀性(D50偏差±5%)
- 纹理特征:取向偏差角≤5°
- 元素映射:空间分辨率≤100nm(参照ISO16700)
- 能谱定量:元素含量误差≤0.5wt%
- 平均粒径:测量精度±2nm
- 尺寸分布:跨度值≤1.5(参照ISO13322-1)
- 裂纹长度:检测限≤50nm
- 孔隙率:孔隙尺寸≥100nm
- 涂层厚度:测量精度±5nm
- 界面完整性:界面宽度≤20nm(参照ASTME1078)
- 相含量:体积分数误差±2%
- 相尺寸:最小可识别尺寸10nm
- 晶向偏差:角度误差≤1°(参照ISO24173)
- 晶粒尺寸:测量范围0.1-100μm
- 残余应力:精度±10MPa
- 应变分布:空间分辨率50nm
- 细胞结构:分辨率≥5nm
- 组织形貌:脱水样品适应性
- 纳米管直径:测量误差±1nm
- 量子点分布:密度均匀性≥95%
检测范围
1.金属材料:包括铝合金不锈钢和钛合金,重点检测晶粒大小相分布和表面缺陷。
2.陶瓷材料:涵盖氧化铝碳化硅和氮化硅,侧重分析微观孔隙裂纹和界面结合强度。
3.聚合物材料:涉及聚乙烯聚碳酸酯和橡胶,核心检测表面形貌变化分子链排列和老化特征。
4.复合材料:如碳纤维增强塑料和金属基复合材料,重点评估纤维-基体界面分层缺陷和均匀性。
5.半导体器件:包括硅晶圆和GaAs芯片,检测重点为器件结构完整性缺陷密度和表面污染。
6.生物组织:涵盖细胞切片和骨组织样本,侧重分辨率优化下的细胞形态孔隙结构和生物相容性分析。
7.纳米材料:如纳米颗粒和石墨烯,重点检测粒度分布表面粗糙度和团聚现象。
8.地质样品:涉及矿物和岩石薄片,核心分析矿物组成微裂纹和孔隙网络。
9.电子产品:如PCB电路板和微电子封装,检测重点为焊点完整性涂层厚度和热应力损伤。
10.药品颗粒:涵盖粉末制剂和胶囊,侧重粒径均匀性表面形貌和结晶度评估。
检测方法
国际标准:
- ISO16700:2016扫描电子显微镜校准方法
- ASTME1508-20能谱仪定量分析指南
- ISO13322-1:2014颗粒尺寸分布测定
- GB/T18898.1-2002扫描电子显微镜测试方法
- GB/T16594-2008微米级长度SEM测量方法
- GB/T23461-2009纳米材料表征技术规范
检测设备
1.扫描电子显微镜:ModelXYZ-3000(分辨率1nm,加速电压0.2-30kV)
2.能谱探测器:ModelEDS-500(元素检测限0.1wt%,能量分辨率130eV)
3.电子背散射衍射系统:ModelEBSD-Pro(角度分辨率0.1°,步进尺寸10nm)
4.二次电子探测器:ModelSE-200(信号噪声比≥1000:1)
5.背散射电子探测器:ModelBSE-150(原子序数对比度偏差≤5%)
6.样品溅射涂层机:ModelSputter-50(涂层厚度控制±2nm)
7.高真空系统:ModelVacuum-Pro(真空度≤10-5Pa)
8.冷冻样品台:ModelCryo-100(温度范围-180°C至20°C)
9.原位拉伸台:ModelTensile-T(载荷范围0-500N,位移精度0.1μm)
10.X射线能谱仪:ModelXRF-SEM(能量范围0.1-20keV)
11.离子束研磨系统:ModelIonMill-80(束流密度0.1-5nA)
12.自动样品台:ModelStage-Auto(移动精度±100nm)
13.环境扫描附件:ModelESEM-Add(湿度控制范围10-95%)
14.三维重构软件:Software3D-SEM(图像层析厚度≤5nm)
15.能谱分析软件:SoftwareEDS-Suite(元素映射速度≥100点/秒)
北京中科光析科学技术研究所【简称:中析研究所】
报告:可出具第三方检测报告(电子版/纸质版)。
检测周期:7~15工作日,可加急。
资质:旗下实验室可出具CMA/CNAS资质报告。
标准测试:严格按国标/行标/企标/国际标准检测。
非标测试:支持定制化试验方案。
售后:报告终身可查,工程师1v1服务。