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掺杂半导体检测

因您的需求、实验方案、检测样品、测试过程不同,相应的参考标准请咨询在线工程师!

文章概述:掺杂半导体检测是评估材料电学性能与工艺质量的核心环节,重点针对载流子浓度、迁移率及缺陷特性等关键参数进行量化分析。本文系统阐述半导体掺杂材料的检测项目、适用材料范围、标准化测试方法及专用仪器配置,为微电子器件制造与研发提供技术依据。

检测项目

载流子浓度:测量n型/p型半导体的电子/空穴密度(1E14~1E20cm⁻)

迁移率测试:测定载流子霍尔迁移率(10~10⁴cm/(Vs))

电阻率分析:四探针法测量方块电阻(0.001~100Ωcm)

霍尔系数测定:计算载流子类型与浓度(1E-3~1E1cm/C)

掺杂均匀性评估:扫描式微波阻抗成像(分辨率≤1μm)

检测范围

硅基掺杂材料:磷/硼掺杂单晶硅片(Φ200~300mm)

III-V族化合物:砷化镓(GaAs)、氮化镓(GaN)外延片

宽禁带半导体:碳化硅(SiC)、氧化锌(ZnO)晶圆

有机半导体:并五苯/PEDOT:PSS薄膜材料

低维半导体:石墨烯/过渡金属硫化物(TMDC)异质结

检测方法

霍尔效应测试:ASTMF76-08(2020)、GB/T1550-2018

四探针法:ASTMF84-20、GB/T1551-2009

二次离子质谱(SIMS):ISO18114:2021、GB/T32281-2015

扩展电阻探针(SRP):SEMIMF525-0317

微波光电导衰减(μ-PCD):JISH0605:2019

检测设备

Keithley4200A-SCS参数分析仪:实现I-V/C-V特性曲线测量

LakeShore8400系列霍尔测试系统:磁场强度0~2T可调

FourDimensions4DP-3000四探针台:支持高温(600℃)测试

CamecaIMS7f-AutoSIMS:深度分辨率<1nm

SemilabWT-2000微波探针台:载流子寿命测量精度5%

ThermoScientificμ-PCDScanner:扫描速度200mm/s

BrukerDimensionIconAFM:导电原子力显微分析

Agilent5500LSAFM-Raman联用系统:微区电学-光学表征

OxfordInstrumentsPlasmaPro100RIE:样品前处理刻蚀

JEOLJSM-7900F场发射SEM:纳米级表面形貌观测

北京中科光析科学技术研究所【简称:中析研究所】

报告:可出具第三方检测报告(电子版/纸质版)。

检测周期:7~15工作日,可加急。

资质:旗下实验室可出具CMA/CNAS资质报告。

标准测试:严格按国标/行标/企标/国际标准检测。

非标测试:支持定制化试验方案。

售后:报告终身可查,工程师1v1服务。

掺杂半导体检测
中析研究所

北京中科光析科学技术研究所(简称中析研究所),隶属于北京前沿科学技术研究院,为集体所有制单位,是以科研检测为主的科学技术研究机构。中析研究所坚持基础研究与应用研究并重、应用研究和技术转化相结合,发展为以“任务带学科”为主要特色的综合性研究所。经国家有关部门批准,成为第三方分析测试技术服务单位,旗下实验室机构获得CMA资质认证。开展了研发设计、分析检测、试验验证、共性加工、信息及知识产权等服务,为科技型企业创新提供公共服务。本所得到政府创新基金的支持,被评为国家高新技术企业。

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