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栅阻效应检测方法

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文章概述:栅阻效应是指MOSFET器件在工作过程中由于栅极电压变化引起的源极-漏极电流的变化。为了检测栅阻效应,可以采用以下方法:
1. 静态栅极电流检测方法:通过测量MOSFET器件的栅极电

栅阻效应是指MOSFET器件在工作过程中由于栅极电压变化引起的源极-漏极电流的变化。为了检测栅阻效应,可以采用以下方法:

1. 静态栅极电流检测方法:通过测量MOSFET器件的栅极电流,观察其随栅极电压变化的趋势,以判断栅阻效应的存在与否。

2. 动态电流检测方法:通过在MOSFET器件的栅极上施加一个正弦信号,测量源极-漏极电流的变化,以得到栅阻效应的频率响应。

3. 次阈电压法:通过施加不同的栅极电压,测量源极-漏极电流,绘制栅极电流与栅极电压之间的关系曲线,以评估栅阻效应的强度。

4. 源极电压波动法:通过在源极上施加一个随机波动的电压信号,测量源极-漏极电流的变化,以评估栅阻效应的强度。

栅阻效应检测方法
中析研究所

北京中科光析科学技术研究所(简称中析研究所),隶属于北京前沿科学技术研究院,为集体所有制单位,是以科研检测为主的科学技术研究机构。中析研究所坚持基础研究与应用研究并重、应用研究和技术转化相结合,发展为以“任务带学科”为主要特色的综合性研究所。经国家有关部门批准,成为第三方分析测试技术服务单位,旗下实验室机构获得CMA资质认证。开展了研发设计、分析检测、试验验证、共性加工、信息及知识产权等服务,为科技型企业创新提供公共服务。本所得到政府创新基金的支持,被评为国家高新技术企业。

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