检测项目
主含量测定：SiCl₃纯度≥99.999%（4N5级），检测精度±0.0005%
游离氯检测：限定值≤10ppm，采用电位滴定法测定
金属杂质分析：Fe、Al、Cu等23种元素总量≤1ppm，单项限值≤0.1ppm
水分含量测定：卡尔费休法检测，控制指标≤50ppm
密度检测：20℃标准密度1.34±0.02g/cm³，专用比重瓶法测定
检测范围
高纯三氯化硅原料：光伏级、电子级产品批次检验
半导体前驱体材料：晶圆沉积用三氯化硅溶液
工业中间体：有机硅合成原料纯度验证
废液处理监测：生产废水中SiCl₃残留检测
储运容器检测：特种钢罐体腐蚀产物分析
检测方法
气相色谱-质谱联用法（GC-MS）：依据ASTM E260-96测定挥发性杂质
电感耦合等离子体质谱法（ICP-MS）：执行ISO 17294-2:2016金属杂质检测
傅里叶红外光谱法（FTIR）：参照ASTM E168测定分子结构特征
库仑法水分测定：符合ASTM D6304-16标准要求
X射线荧光光谱法（XRF）：采用ISO 3497:2000进行快速筛查
检测设备
Agilent 8890气相色谱仪：配备FID检测器，分辨率0.1ppm
Thermo iCAP RQ ICP-MS：检测限达0.01ppb，RSD＜2%
Metrohm 917 Coulometric KF滴定仪：水分检测精度±0.1μg
Bruker ALPHA II FTIR光谱仪：光谱范围7800-350cm⁻¹
Mettler Toledo DMA 4500M密度计：温度控制±0.01℃
技术优势
通过CNAS（ISO/IEC 17025）实验室认可，检测报告国际互认
配备Class 100洁净检测区，满足半导体材料检测环境要求
建立三氯化硅专属数据库，包含2000+批次检测数据基准值
采用三重四级杆质谱技术，有效区分同量异位素干扰
持有CMA资质认定证书（编号：×××××），覆盖全部检测参数
