平面晶体检测
检测项目
晶格常数测量:精度±0.001Å,范围1.0-10.0Å
表面粗糙度分析:Ra值检测范围0.1-100nm,分辨率0.05nm
晶体缺陷密度检测:分辨率≥10^3 defects/cm²
晶体取向偏差:角度偏差±0.05°,空间分辨率1μm
残余应力测试:测量范围±2000MPa,误差≤5%
检测范围
半导体材料:单晶硅、砷化镓(GaAs)、碳化硅(SiC)
光学晶体:氟化钙(CaF₂)、石英(SiO₂)、铌酸锂(LiNbO₃)
压电晶体:钽酸锂(LiTaO₃)、锆钛酸铅(PZT)
超硬晶体:金刚石、立方氮化硼(c-BN)
激光晶体:掺钕钇铝石榴石(Nd:YAG)、蓝宝石(Al₂O₃)
检测方法
X射线衍射法(XRD):ASTM E975,GB/T 23413-2009
原子力显微镜(AFM):ISO 11039,GB/T 31227-2014
扫描电子显微镜(SEM):ISO 16700,GB/T 17359-2012
激光共聚焦显微镜:ISO 25178,GB/T 34879-2017
电子背散射衍射(EBSD):ASTM E2627,GB/T 38885-2020
检测设备
Bruker D8 Discover XRD仪:高分辨率晶体结构分析(0.0001°步进精度)
Veeco Dimension Icon原子力显微镜:最大扫描范围90μm,Z轴分辨率0.01nm
Hitachi SU5000场发射扫描电镜:加速电压0.1-30kV,分辨率1.0nm@15kV
Olympus LEXT OLS5000激光共聚焦显微镜:408nm激光,横向分辨率120nm
Malvern Panalytical Empyrean XRD分析仪:残余应力测量模块,符合GB/T 7704-2017
北京中科光析科学技术研究所【简称:中析研究所】
报告:可出具第三方检测报告(电子版/纸质版)。
检测周期:7~15工作日,可加急。
资质:旗下实验室可出具CMA/CNAS资质报告。
标准测试:严格按国标/行标/企标/国际标准检测。
非标测试:支持定制化试验方案。
售后:报告终身可查,工程师1v1服务。