二硫化钨检测
检测项目
1.纯度分析:总硫含量(≥59.8%)、游离硫(≤0.3%)、金属杂质(Fe≤50ppm,Ni≤30ppm)2.晶体结构表征:层间距(0.620.02nm)、晶型完整性(2H/3R相比例)3.薄膜厚度测量:单层厚度(0.65-0.75nm)、多层膜均匀性(RSD≤5%)4.元素比例测定:W:S原子比(1:1.95-2.05)、氧含量(≤1.5at%)5.表面形貌分析:缺陷密度(≤10/cm)、层间堆垛有序度
检测范围
1.固体润滑剂用WS₂粉末(粒径50nm-10μm)2.CVD法制备的二维半导体薄膜(1-10层)3.锂离子电池负极复合材料(WS₂/C复合体系)4.高温涂层用WS₂基复合材料(含MoS₂/NbSe₂掺杂体系)5.光电催化用纳米片材料(比表面积≥20m/g)
检测方法
1.ASTME3061-17《过渡金属硫化物元素分析法》2.ISO22262-3:2017《层状材料晶体结构XRD表征规范》3.GB/T4325-2020《钨及钨化合物化学分析方法》4.ISO21363:2020《纳米材料粒径分布TEM测定法》5.GB/T36065-2018《纳米材料比表面积测试BET法》6.ASTMF1526-21《薄膜厚度椭圆偏振测量标准》
检测设备
1.RigakuSmartLabX射线衍射仪:晶型分析(2θ=10-80)2.HitachiSU5000场发射扫描电镜:表面形貌观测(分辨率1nm)3.ThermoFisheriCAPRQICP-MS:痕量金属杂质检测(ppb级)4.HoribaLabRAMHREvolution拉曼光谱仪:层数判定(特征峰位移2cm⁻)5.MalvernMastersizer3000激光粒度仪:粒径分布测试(0.01-3500μm)6.BrukerDimensionIcon原子力显微镜:表面粗糙度测量(垂直分辨率0.1nm)7.QuantachromeAutosorb-iQ比表面分析仪:BET比表面积测定(精度1%)8.Agilent5500扫描探针显微镜:电学性能原位测试(电流分辨率10pA)9.PerkinElmerSTA8000同步热分析仪:热稳定性测试(RT-1500℃)10.J.A.WoollamM-2000V椭圆偏振仪:薄膜厚度测量(误差0.1nm)
北京中科光析科学技术研究所【简称:中析研究所】
报告:可出具第三方检测报告(电子版/纸质版)。
检测周期:7~15工作日,可加急。
资质:旗下实验室可出具CMA/CNAS资质报告。
标准测试:严格按国标/行标/企标/国际标准检测。
非标测试:支持定制化试验方案。
售后:报告终身可查,工程师1v1服务。