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无机光刻胶检测范围

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文章概述:无机光刻胶检测主要应用于半导体制造等领域,用于测试无机光刻胶的性能和质量。常见的无机光刻胶检测对象包括但不限于:半导体芯片:用于检测芯片上的无机光刻胶。光刻胶薄膜:对薄

无机光刻胶检测主要应用于半导体制造等领域,用于测试无机光刻胶的性能和质量。

常见的无机光刻胶检测对象包括但不限于:

半导体芯片:用于检测芯片上的无机光刻胶。

光刻胶薄膜:对薄膜的厚度、均匀性等进行检测。

光刻胶图案:检查图案的精度、清晰度等。

光刻胶附着力:测试其与基底的附着力。

光刻胶抗蚀性:评估其抵抗蚀刻的能力。

光刻胶分辨率:检测其所能实现的最小图案尺寸。

无机光刻胶检测范围
中析研究所

北京中科光析科学技术研究所(简称中析研究所),隶属于北京前沿科学技术研究院,为集体所有制单位,是以科研检测为主的科学技术研究机构。中析研究所坚持基础研究与应用研究并重、应用研究和技术转化相结合,发展为以“任务带学科”为主要特色的综合性研究所。经国家有关部门批准,成为第三方分析测试技术服务单位,旗下实验室机构获得CMA资质认证。开展了研发设计、分析检测、试验验证、共性加工、信息及知识产权等服务,为科技型企业创新提供公共服务。本所得到政府创新基金的支持,被评为国家高新技术企业。

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