检测项目

1.膜层厚度测量：分辨率0.1nm（X射线荧光法），量程1nm-50μm2.表面粗糙度分析：Ra值范围0.01-10μm（白光干涉仪）3.附着力测试：划痕法临界载荷0.1-50N（划痕仪）4.成分分析：EDS能谱元素检测精度0.1wt%5.透光率测试：波长范围200-2500nm（分光光度计）

检测范围

1.半导体晶圆镀膜：Al/Cu金属层、SiN介质层2.柔性显示材料：ITO导电膜、PI基材3.光学镀膜：AR增透膜、IR截止滤光片4.纳米涂层：石墨烯复合涂层、DLC类金刚石薄膜5.包装材料：PET/PP阻隔涂层、AlOx蒸镀膜

检测方法

1.ASTMB748-90(2021)射线荧光法测厚规范2.ISO21994-2005椭圆偏振法薄膜测量规程3.GB/T11378-2005金属覆盖层厚度测量X射线光谱法4.ISO14577-1:2015仪器化压痕法力学性能测试5.GB/T9754-2007镜面光泽度测定方法

检测设备

1.FischerXDV-μX射线荧光测厚仪（德国）：多层膜同时测量2.BrukerDektakXT轮廓仪（美国）：0.1垂直分辨率3.AgilentCary7000分光光度计（美国）：5nm波长精度4.ZeissSigma500场发射电镜（德国）：1nm成像分辨率5.AntonPaarRevetest划痕仪（奥地利）：500mN载荷精度6.KeyenceVK-X3000激光显微镜（日本）：0.5nm粗糙度解析7.HoribaJobinYvonUVISEL椭圆偏振仪（法国）：0.01nm膜厚灵敏度8.ShimadzuAIM-9000红外热像仪（日本）：20μm热分辨率9.MTSNanoindenterG200（美国）：nN级载荷控制10.OxfordInstrumentsX-Max80能谱仪（英国）：127eV能量分辨率

北京中科光析科学技术研究所【简称：中析研究所】

报告：可出具第三方检测报告(电子版/纸质版)。

检测周期：7~15工作日，可加急。

资质：旗下实验室可出具CMA/CNAS资质报告。

标准测试：严格按国标/行标/企标/国际标准检测。

非标测试：支持定制化试验方案。

售后：报告终身可查，工程师1v1服务。