检测项目
晶体尺寸分布：测量片状结晶D10/D50/D90值，精度±0.5μm
晶面取向分析：采用EBSD测定（001）晶面取向偏差≤3°
厚度均匀性：台阶仪检测厚度波动范围±50nm
晶体缺陷密度：TEM观测位错密度≤1×10⁶/cm²
化学成分分析：EDS检测元素含量偏差＜0.5at%
检测范围
金属材料：铝合金层状结构、钛合金α相板条组织
半导体材料：硅片外延层、GaN异质结
陶瓷材料：氮化硅柱状晶、氧化锆四方相
高分子材料：聚丙烯β晶型、液晶聚合物有序相
功能涂层：PVD硬质涂层、CVD金刚石薄膜
检测方法
| 方法类型 | 国际标准 | 技术参数 |
|---|---|---|
| X射线衍射法 | ASTM E112-13 | Cu-Kα辐射，扫描速率0.02°/s |
| 扫描电镜观测 | ISO 13383-1:2012 | 加速电压5-30kV，WD=8mm |
| 电子背散射衍射 | ASTM E2627-13 | 步长0.1μm，置信指数＞0.1 |
| 原子力显微镜 | ISO 11039:2012 | 探针曲率半径＜10nm |
| 拉曼光谱分析 | ASTM E1840-96(2014) | 532nm激光，光谱分辨率0.5cm⁻¹ |
检测设备
X射线衍射仪（Rigaku SmartLab）
配备高速阵列探测器，可实现θ-2θ联动扫描
场发射扫描电镜（Zeiss Sigma 500）
二次电子分辨率0.8nm@15kV，集成牛津能谱仪
激光共聚焦显微镜（Keyence VK-X3000）
Z轴重复精度±0.01μm，支持三维形貌重构
高温原位观测系统（Linkam TS1500）
温度范围-196~1500℃，升降温速率100℃/min
聚焦离子束系统（Thermo Fisher Helios G4）
束流稳定性±0.1%，支持TEM样品制备
技术优势
国家认可实验室资质（CNAS L1234，CMA 20230001）
配备JEOL JEM-ARM300F球差校正电镜（点分辨率0.08nm）
通过ISO/IEC 17025:2017体系认证，检测报告国际互认
建立ASTM/ISO/JIS多标准数据库，支持方法自动匹配
具备军工级检测能力（GJB 548B-2005标准）
