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位错侵蚀坑检测仪器

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文章概述:位错侵蚀坑检测通常使用扫描电子显微镜(SEM)或透射电子显微镜(TEM)等仪器。
SEM 可以用于观察样品表面的微观结构和位错侵蚀坑的形态。它通过电子束扫描样品表面,产生二次电子图

位错侵蚀坑检测通常使用扫描电子显微镜(SEM)或透射电子显微镜(TEM)等仪器。

SEM 可以用于观察样品表面的微观结构和位错侵蚀坑的形态。它通过电子束扫描样品表面,产生二次电子图像,提供高分辨率的表面形貌信息。

TEM 则可以用于更深入地分析位错侵蚀坑的结构和晶体缺陷。它通过透射电子束穿过样品,形成衍射图像和高分辨率的晶格图像,能够揭示位错的细节和晶体结构。

位错侵蚀坑检测仪器
中析研究所

北京中科光析科学技术研究所(简称中析研究所),隶属于北京前沿科学技术研究院,为集体所有制单位,是以科研检测为主的科学技术研究机构。中析研究所坚持基础研究与应用研究并重、应用研究和技术转化相结合,发展为以“任务带学科”为主要特色的综合性研究所。经国家有关部门批准,成为第三方分析测试技术服务单位,旗下实验室机构获得CMA资质认证。开展了研发设计、分析检测、试验验证、共性加工、信息及知识产权等服务,为科技型企业创新提供公共服务。本所得到政府创新基金的支持,被评为国家高新技术企业。

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