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点阵位置检测

因您的需求、实验方案、检测样品、测试过程不同,相应的参考标准请咨询在线工程师!

文章概述:点阵位置检测是精密制造领域的关键质量控制环节,通过高精度仪器对材料表面或内部点阵结构的几何参数进行量化分析。核心检测指标包括坐标偏差、间距精度及重复性误差等,适用于半导体晶圆、光学元件及复合材料等工业场景。本文依据ASTM、ISO及GB/T标准体系,系统阐述检测方法、设备选型与参数规范。

检测项目

1. 点阵间距测量:XY轴向间距公差±0.5μm(@25℃),Z轴层间公差±1.2μm

2. 坐标定位偏差:最大允许误差≤±0.8μm(基于ISO 10360-2标准)

3. 重复定位精度:3σ值≤0.3μm(连续20次测量循环)

4. 角度偏移量:θx/θy轴角分辨率0.001°,测量范围±5°

5. 表面共面度:平面度误差≤λ/4(λ=632.8nm激光波长)

检测范围

1. 半导体晶圆:12英寸硅片曝光标记点阵定位

2. OLED显示面板:RGB像素矩阵排列精度验证

3. 衍射光学元件:微结构周期相位分布检测

4. 金属增材件:SLM成型支撑点阵形变分析

5. 碳纤维复合材料:铺层定位标记三维坐标校准

检测方法

1. 激光干涉法:ASTM E2848-19标准规定波长稳定性需优于0.01ppm

2. 白光共焦扫描:ISO 25178-602对台阶高度测量不确定度要求<3%

3. X射线断层扫描:GB/T 35388-2017层析分辨率应达0.5μm/voxel

4. 机器视觉定位:GB/T 38659-2020规定亚像素算法精度≥1/50像素

5. 原子力显微测量:ISO 11039:2011接触模式力控范围0.1-100nN

检测设备

1. Zygo Verifire MST激光干涉仪:波长632.8nm,重复性0.15nm RMS

2. Keyence LM-9000坐标测量机:最大量程1200×800×600mm,U95=1.2+L/400μm

3. Bruker ContourGT-X3白光干涉仪:垂直分辨率0.1nm,扫描速度50μm/s

4. Zeiss Xradia 620 Versa显微CT:空间分辨率0.7μm@50kV,4D扫描功能

5. Olympus LEXT OLS5000激光共焦显微镜:405nm激光源,横向分辨率120nm

6. Hexagon Leitz PMM-C Infinity三坐标机:MPEE=0.6+L/333μm,温度补偿±0.1℃

7. Nikon NEXIV VMZ-S3520视频测量系统:双远心镜头,放大倍率35×-210×

8. Park NX-Hivac原子力显微镜:非接触模式Z噪声<0.02nm RMS

9. Mitutoyo Quick Vision Pro影像仪:双CCD自动对焦系统,重复精度±0.3μm

10. OGP SmartScope Flash 500多传感器系统:配备12MP彩色CMOS与激光扫描头

北京中科光析科学技术研究所【简称:中析研究所】

报告:可出具第三方检测报告(电子版/纸质版)。

检测周期:7~15工作日,可加急。

资质:旗下实验室可出具CMA/CNAS资质报告。

标准测试:严格按国标/行标/企标/国际标准检测。

非标测试:支持定制化试验方案。

售后:报告终身可查,工程师1v1服务。

点阵位置检测
中析研究所

北京中科光析科学技术研究所(简称中析研究所),隶属于北京前沿科学技术研究院,为集体所有制单位,是以科研检测为主的科学技术研究机构。中析研究所坚持基础研究与应用研究并重、应用研究和技术转化相结合,发展为以“任务带学科”为主要特色的综合性研究所。经国家有关部门批准,成为第三方分析测试技术服务单位,旗下实验室机构获得CMA资质认证。开展了研发设计、分析检测、试验验证、共性加工、信息及知识产权等服务,为科技型企业创新提供公共服务。本所得到政府创新基金的支持,被评为国家高新技术企业。

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