内容页头部

硅粒检测

因您的需求、实验方案、检测样品、测试过程不同,相应的参考标准请咨询在线工程师!

文章概述:硅粒检测是评估硅基材料性能的重要技术手段,主要涵盖粒径分布、化学成分及物理特性等核心指标。专业检测需依据ASTM、ISO及GB/T标准体系执行,采用激光粒度仪、XRD等精密设备进行定量分析。本文系统介绍硅粒检测的关键项目、适用材料范围及标准化操作流程。

检测项目

1.粒径分布:D10/D50/D90值(μm)、跨度值((D90-D10)/D50)

2.化学成分:总硅含量(≥99.9%)、杂质元素(Fe/Al/Ca≤0.01%)

3.振实密度:测试范围1.0-3.0g/cm(0.05g)

4.表面形貌:粗糙度Ra值(0.1-5μm)、孔隙率(≤3%)

5.电导率:测量范围10⁻⁶-10S/cm(5%)

检测范围

1.半导体级多晶硅(纯度≥99.9999%)

2.光伏用太阳能级硅料(粒径80-150μm)

3.冶金工业用金属硅(Si≥98.5%)

4.纳米硅粉材料(粒径50-200nm)

5.硅碳复合材料(C含量5-30wt%)

检测方法

1.ASTMB822-20激光衍射法测粒度分布

2.ISO21068-2:2008硅质材料化学分析

3.GB/T1480-2012金属粉末干筛分法

4.GB/T5162-2021金属粉末振实密度测定

5.ISO18516:2019扫描电镜表面形貌分析

6.ASTMF723-18半导体材料电性能测试

检测设备

1.马尔文Mastersizer3000:激光粒度分析(0.01-3500μm)

2.赛默飞iCAPPROXSPICP-OES:元素分析(检出限0.1ppm)

3.麦克TAP-2S振实密度仪:测量精度0.02g/cm

4.蔡司Sigma500SEM:分辨率1nm@15kV

5.布鲁克D8ADVANCEXRD:角度范围5-140(2θ)

6.安捷伦5500AFM:Z轴分辨率0.1nm

7.岛津EDX-7000:元素分析范围B-U

8.梅特勒XPE205天平:精度0.01mg

9.雷度科学BDS-100电导率仪:量程0-200mS/cm

10.RetschAS200control筛分仪:筛分精度1%

北京中科光析科学技术研究所【简称:中析研究所】

报告:可出具第三方检测报告(电子版/纸质版)。

检测周期:7~15工作日,可加急。

资质:旗下实验室可出具CMA/CNAS资质报告。

标准测试:严格按国标/行标/企标/国际标准检测。

非标测试:支持定制化试验方案。

售后:报告终身可查,工程师1v1服务。

硅粒检测
中析研究所

北京中科光析科学技术研究所(简称中析研究所),隶属于北京前沿科学技术研究院,为集体所有制单位,是以科研检测为主的科学技术研究机构。中析研究所坚持基础研究与应用研究并重、应用研究和技术转化相结合,发展为以“任务带学科”为主要特色的综合性研究所。经国家有关部门批准,成为第三方分析测试技术服务单位,旗下实验室机构获得CMA资质认证。开展了研发设计、分析检测、试验验证、共性加工、信息及知识产权等服务,为科技型企业创新提供公共服务。本所得到政府创新基金的支持,被评为国家高新技术企业。

全站搜索

中析研究所