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金属须检测

因您的需求、实验方案、检测样品、测试过程不同,相应的参考标准请咨询在线工程师!

文章概述:金属须检测是评估材料表面微米级晶须生长特性的重要手段,主要应用于电子元器件、精密仪器等领域。检测涵盖形态分析、成分测定、生长速率等核心指标,需依据ASTM、ISO及GB/T等标准执行。本文系统阐述检测项目、适用材料、方法规范及设备选型等技术要素。

检测项目

1. 形态分析:长度(5-500μm)、直径(0.1-5μm)、曲率半径(0.05-2μm)

2. 成分测定:元素组成(Sn,Zn,Ag等)、杂质含量(≤0.5%)

3. 生长速率:常温下≤1μm/月,高温(85℃)≤10μm/月

4. 机械性能:抗拉强度(50-200MPa)、弹性模量(20-80GPa)

5. 环境耐受:温度循环(-40℃~125℃)、湿度测试(85%RH/1000h)

检测范围

1. 电子元器件:PCB板镀层、BGA焊球、连接器端子

2. 汽车零部件:ECU模块触点、传感器镀层

3. 航空航天:航电系统接插件、卫星天线镀膜

4. 金属镀层:电镀锌层、化学镀镍层

5. 封装材料:LED支架镀银层、IC封装锡须

检测方法

1. ASTM B117:盐雾试验(NaCl浓度5%±1%)

2. ISO 16701:循环腐蚀试验(Cl⁻浓度0.035%)

3. GB/T 2423.17:交变湿热试验(40℃/93%RH)

4. JESD201A:电子元件金属须评估规范

5. GB/T 6461:金属覆盖层孔隙率测试

检测设备

1. 蔡司EVO 18扫描电镜:分辨率3nm@30kV

2. 牛津X-Max 50能谱仪:元素分析精度±0.1%

3. 岛津AGS-X万能试验机:载荷范围0.01N-50kN

4. ESPEC PL-3KPH气候箱:温控精度±0.5℃

5. Bruker D8 ADVANCE XRD:角度重复性±0.0001°

6. Keyence VHX-7000数码显微镜:5000倍光学放大

7. Thermo Fisher iCAP RQ ICP-MS:检出限0.1ppb

8. Hitachi NX5000 FIB-SEM:离子束精度5nm

9. MTS Criterion万能材料机:应变速率0.0001-1000mm/min

10. Agilent 5500 AFM:Z轴分辨率0.1nm

北京中科光析科学技术研究所【简称:中析研究所】

报告:可出具第三方检测报告(电子版/纸质版)。

检测周期:7~15工作日,可加急。

资质:旗下实验室可出具CMA/CNAS资质报告。

标准测试:严格按国标/行标/企标/国际标准检测。

非标测试:支持定制化试验方案。

售后:报告终身可查,工程师1v1服务。

金属须检测
中析研究所

北京中科光析科学技术研究所(简称中析研究所),隶属于北京前沿科学技术研究院,为集体所有制单位,是以科研检测为主的科学技术研究机构。中析研究所坚持基础研究与应用研究并重、应用研究和技术转化相结合,发展为以“任务带学科”为主要特色的综合性研究所。经国家有关部门批准,成为第三方分析测试技术服务单位,旗下实验室机构获得CMA资质认证。开展了研发设计、分析检测、试验验证、共性加工、信息及知识产权等服务,为科技型企业创新提供公共服务。本所得到政府创新基金的支持,被评为国家高新技术企业。

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