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还原铜粉检测

因您的需求、实验方案、检测样品、测试过程不同,相应的参考标准请咨询在线工程师!

文章概述:还原铜粉检测是保障工业原料质量的重要环节,主要针对纯度、粒度分布及杂质含量等核心指标进行系统分析。专业检测需依据ISO、ASTM及GB/T标准体系,采用光谱分析、粒度测定等技术手段,确保数据准确性和材料适用性。本文重点解析关键检测项目、方法及设备配置。

检测项目

1. 纯度分析:总铜含量≥99.5%,杂质元素(Fe、Pb、As)≤0.03%

2. 粒度分布:D10≤8μm,D50=10-50μm,D90≤75μm

3. 氧含量测定:≤0.15%(质量分数)

4. 松装密度:1.2-2.5g/cm³(依据GB/T 1479.1)

5. 比表面积:0.3-1.5m²/g(BET法)

6. 形貌特征:球形度≥85%,卫星颗粒≤5%

7. 流动性测试:霍尔流速≤35s/50g

检测范围

1. 电子工业用高纯铜粉(PCB导电浆料)

2. 粉末冶金用还原铜粉(含油轴承原料)

3. 化工催化剂载体铜粉

4. 3D打印金属粉末(SLM工艺专用)

5. 导电油墨用纳米铜粉(粒径≤100nm)

6. 热管理材料用片状铜粉

7. 金刚石工具胎体结合剂铜粉

检测方法

1. GB/T 5121.1-2008《铜及铜合金化学分析方法》

2. ISO 13320:2020《粒度分析-激光衍射法》

3. ASTM E1941-10(2016)《氧氮氢测定标准》

4. GB/T 5162-2021《金属粉末振实密度测定》

5. ISO 9277:2010《BET法比表面积测试》

6. GB/T 3249-2022《金属粉末流动性的测定》

7. JIS Z2511-2012《金属粉末形貌显微测定法》

检测设备

1. ICP-OES(Thermo iCAP 7400):多元素同步分析

2. 激光粒度仪(Malvern Mastersizer 3000):0.01-3500μm测量

3. ONH分析仪(LECO TCH600):氧含量精度±0.0001%

4. 真密度仪(Micromeritics AccuPyc II 1340):氦气置换法

5. SEM电镜(Hitachi SU5000):500000倍形貌观测

6. BET比表面仪(Quantachrome NovaWin):多点BET分析

7. 霍尔流速计(CSC Scientific 43900):标准化流速测试

8. XRD衍射仪(Bruker D8 ADVANCE):物相结构鉴定

9. TGA热重仪(PerkinElmer STA8000):氧化增重分析

10. 振实密度仪(ERWEKA SVM202):3000次/min振动频率

北京中科光析科学技术研究所【简称:中析研究所】

报告:可出具第三方检测报告(电子版/纸质版)。

检测周期:7~15工作日,可加急。

资质:旗下实验室可出具CMA/CNAS资质报告。

标准测试:严格按国标/行标/企标/国际标准检测。

非标测试:支持定制化试验方案。

售后:报告终身可查,工程师1v1服务。

还原铜粉检测
中析研究所

北京中科光析科学技术研究所(简称中析研究所),隶属于北京前沿科学技术研究院,为集体所有制单位,是以科研检测为主的科学技术研究机构。中析研究所坚持基础研究与应用研究并重、应用研究和技术转化相结合,发展为以“任务带学科”为主要特色的综合性研究所。经国家有关部门批准,成为第三方分析测试技术服务单位,旗下实验室机构获得CMA资质认证。开展了研发设计、分析检测、试验验证、共性加工、信息及知识产权等服务,为科技型企业创新提供公共服务。本所得到政府创新基金的支持,被评为国家高新技术企业。

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