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硅多晶检测

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文章概述:检测项目1.化学成分分析:测定硼(B≤0.1ppm)、磷(P≤0.3ppm)、碳(C≤5ppm)等杂质含量2.晶体结构表征:晶粒尺寸(10-100μm)、晶界角度(15-45)及取向分布3.电学性能测试:电阻率(0.5-5Ωcm)、少子寿命(≥50μs)及载流子浓度4.缺陷密度评估:位错密度(≤10^4/cm)、层错率(<0.1%)及微裂纹分布5.热学性能检测:热膨胀系数(2.610^-6/K)、导热率(150W/mK)及高温稳定性检测范围1.太阳能级多晶硅锭(G1-G12尺寸规格)2.电子级高纯多晶硅棒

检测项目

1.化学成分分析:测定硼(B≤0.1ppm)、磷(P≤0.3ppm)、碳(C≤5ppm)等杂质含量2.晶体结构表征:晶粒尺寸(10-100μm)、晶界角度(15-45)及取向分布3.电学性能测试:电阻率(0.5-5Ωcm)、少子寿命(≥50μs)及载流子浓度4.缺陷密度评估:位错密度(≤10^4/cm)、层错率(<0.1%)及微裂纹分布5.热学性能检测:热膨胀系数(2.610^-6/K)、导热率(150W/mK)及高温稳定性

检测范围

1.太阳能级多晶硅锭(G1-G12尺寸规格)2.电子级高纯多晶硅棒(纯度≥99.9999%)3.铸造多晶硅片(厚度160-200μm)4.冶金法提纯多晶硅料(Si≥99.99%)5.回收再生多晶硅原料(杂质总量≤50ppm)

检测方法

1.ASTME1217-21《硅材料中杂质元素的光谱分析法》2.ISO15303:2018《多晶硅晶体缺陷的X射线衍射测定法》3.GB/T24582-2021《多晶硅表面金属杂质含量测定方法》4.ASTMF723-19《半导体级硅电阻率测试规程》5.GB/T37049-2018《电子级多晶硅中碳含量的测定》

检测设备

1.辉光放电质谱仪(GDMS,ThermoFisherELEMENTGD):痕量元素分析精度达ppb级2.X射线衍射仪(XRD,PANalyticalEmpyrean):晶体结构分析分辨率0.00013.四探针电阻测试仪(LucasLabsSYS-301):测量范围0.001-10000Ωcm4.扫描电子显微镜(SEM,JEOLJSM-7900F):分辨率1nm的微观形貌观测5.傅里叶红外光谱仪(FTIR,BrukerVERTEX80v):碳氧含量检测下限0.01ppma6.少子寿命测试仪(SemilabWT-2000):μs级载流子寿命测量7.热重分析仪(TGA,NetzschSTA449F3):高温稳定性测试范围RT-1600℃8.激光粒度分析仪(MalvernMastersizer3000):晶粒尺寸分布测量精度0.1μm9.X射线荧光光谱仪(XRF,ShimadzuEDX-7000):快速成分分析速度≤3min/样10.超声波探伤仪(OlympusEPOCH650):微裂纹检出灵敏度0.1mm

北京中科光析科学技术研究所【简称:中析研究所】

报告:可出具第三方检测报告(电子版/纸质版)。

检测周期:7~15工作日,可加急。

资质:旗下实验室可出具CMA/CNAS资质报告。

标准测试:严格按国标/行标/企标/国际标准检测。

非标测试:支持定制化试验方案。

售后:报告终身可查,工程师1v1服务。

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中析研究所

北京中科光析科学技术研究所(简称中析研究所),隶属于北京前沿科学技术研究院,为集体所有制单位,是以科研检测为主的科学技术研究机构。中析研究所坚持基础研究与应用研究并重、应用研究和技术转化相结合,发展为以“任务带学科”为主要特色的综合性研究所。经国家有关部门批准,成为第三方分析测试技术服务单位,旗下实验室机构获得CMA资质认证。开展了研发设计、分析检测、试验验证、共性加工、信息及知识产权等服务,为科技型企业创新提供公共服务。本所得到政府创新基金的支持,被评为国家高新技术企业。

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