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曝光设计检测

因您的需求、实验方案、检测样品、测试过程不同,相应的参考标准请咨询在线工程师!

文章概述:检测项目1.光强均匀性:测量曝光面照度分布差异(3%)2.波长精度:验证光源输出波长偏差(2nm)3.曝光时间误差:测试快门响应时间精度(≤0.1ms)4.能量密度稳定性:监测单位面积辐照量波动(CV≤1.5%)5.环境光干扰度:评估暗室背景照度水平(≤0.1lux)检测范围1.半导体光刻胶:DUV/EUV级感光材料2.光学镀膜材料:AR/IR-cut滤光片3.显示面板组件:TFT-LCD光配向膜4.印刷电路板:干膜抗蚀剂涂层5.医疗器械:UV固化生物材料检测方法1.ASTMF1525-2017光刻胶曝光

检测项目

1.光强均匀性:测量曝光面照度分布差异(3%)2.波长精度:验证光源输出波长偏差(2nm)3.曝光时间误差:测试快门响应时间精度(≤0.1ms)4.能量密度稳定性:监测单位面积辐照量波动(CV≤1.5%)5.环境光干扰度:评估暗室背景照度水平(≤0.1lux)

检测范围

1.半导体光刻胶:DUV/EUV级感光材料2.光学镀膜材料:AR/IR-cut滤光片3.显示面板组件:TFT-LCD光配向膜4.印刷电路板:干膜抗蚀剂涂层5.医疗器械:UV固化生物材料

检测方法

1.ASTMF1525-2017光刻胶曝光能量密度测试规程2.ISO9022-11:2015光学系统环境光照稳定性试验3.GB/T26183-2010微电子器件紫外曝光系统验收规范4.IEC61228:2020紫外线杀菌灯辐照度测定方法5.GB/T18833-2014公路交通反光膜耐候性能测试

检测设备

1.OceanOpticsUSB4000光谱仪:200-1100nm波长测量2.OAIModel306紫外辐照计:10-365nm波段校准3.HamamatsuC10424成像亮度计:0.001-100,000cd/m量程4.Newport1918-C光功率计:nW-mW级能量密度检测5.KonicaMinoltaCL-500A分光辐射计:符合CIES026标准6.KeysightN7744A多通道光功率监控系统:8通道同步采样7.LabsphereLMS-7600积分球系统:Φ200mm全向光收集8.ThorlabsPM100D数字功率计:支持12种探头适配9.UshioUIT-250紫外线强度计:UVA/UVB/UVC三波段测量10.RadiantZemaxProMetricY45成像色度计:500万像素CCD传感器

北京中科光析科学技术研究所【简称:中析研究所】

报告:可出具第三方检测报告(电子版/纸质版)。

检测周期:7~15工作日,可加急。

资质:旗下实验室可出具CMA/CNAS资质报告。

标准测试:严格按国标/行标/企标/国际标准检测。

非标测试:支持定制化试验方案。

售后:报告终身可查,工程师1v1服务。

曝光设计检测
中析研究所

北京中科光析科学技术研究所(简称中析研究所),隶属于北京前沿科学技术研究院,为集体所有制单位,是以科研检测为主的科学技术研究机构。中析研究所坚持基础研究与应用研究并重、应用研究和技术转化相结合,发展为以“任务带学科”为主要特色的综合性研究所。经国家有关部门批准,成为第三方分析测试技术服务单位,旗下实验室机构获得CMA资质认证。开展了研发设计、分析检测、试验验证、共性加工、信息及知识产权等服务,为科技型企业创新提供公共服务。本所得到政府创新基金的支持,被评为国家高新技术企业。

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